O pó de polimento de alumina calcinada em placas é feito de pó de alumina industrial de alta qualidade como matéria-prima e processado por um processo de produção especial. O formato do cristal do pó de polimento de alumina produzido é hexagonal e plano, semelhante a uma tábua, por isso é chamado de alumina em placas ou alumina tabular.
A Alumina Plaquetária é um pó abrasivo de alta qualidade, do tipo alumina, constituído por um cristal de Al2O3 em forma de placa com pureza superior a 99,0%. Possui excelentes propriedades de resistência ao calor, além de ser quimicamente inerte, não sendo corroído por ácidos ou bases. Como a distribuição do tamanho das partículas da Alumina Plaquetária é rigorosamente controlada, ela pode produzir uma superfície lapidada muito fina, conferindo-lhe eficácia superlativa como abrasivo. Com uma ampla gama de utilizações, a Alumina Plaquetária é um pó abrasivo capaz de desempenhar uma infinidade de funções.
Partícula | Distribuição de Partículas (µm) | |||
Partícula máxima | Tamanho de partícula | Tamanho de partícula | Tamanho de partícula | |
45 | <82,9 | 53,4± 3,2 | 34,9 ± 2,3 | 22,8± 1,8 |
40 | <77,8 | 41,8± 2,8 | 29,7± 2,0 | 19,0± 1,0 |
35 | <64,0 | 37,6± 2,2 | 25,5± 1,7 | 16,0± 1,0 |
30 | <50,8 | 30,2± 2,1 | 20,8± 1,5 | 14,5± 1,1 |
25 | <40,3 | 26,3 ± 1,9 | 17,4± 1,3 | 10,4± 0,8 |
20 | <32,0 | 22,5± 1,6 | 14,2± 1,1 | 9,00 ± 0,80 |
15 | <25,4 | 16,0± 1,2 | 10,2 ± 0,8 | 6,30±0,50 |
12 | <20,2 | 12,8± 1,0 | 8,20±0,60 | 4,90±0,40 |
9 | <16,0 | 9,70±0,80 | 6,40±0,50 | 3,60±0,30 |
5 | <12,7 | 7,20±0,60 | 4,70±0,40 | 2,80±0,25 |
3 | <10,1 | 5,20±0,40 | 3,10±0,30 | 1,80±0,30 |
Tipo de produto | Gravidade Específica | ||||
Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | Na2O | ||
3 µm-45 µm | >3,90 | >99,0 | <0,20 | <0,10 | <1,00
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1. Em comparação com outros pós tabulares, o pó de alumina tabular possui excelentes propriedades de combinação, como alto ponto de fusão, alta dureza, alta resistência mecânica, boa resistência ao desgaste, resistência química, resistência à oxidação e resistência ao calor, etc.
2. O formato da folha plana aumenta o atrito, melhora a velocidade e a eficiência da moagem, o que pode reduzir o número de máquinas de moagem, mão de obra e tempo de moagem.
3. O formato plano da chapa torna o objeto resistente a arranhões, e a taxa de produtos qualificados pode aumentar de 10% a 15%. Por exemplo, a taxa de wafers de silício semicondutores qualificados pode chegar a 96% ou mais.
4. Tem os efeitos duplos dos pós nano e micro, a atividade de superfície é moderada, não só pode combinar-se eficazmente com outros grupos ativos, mas também não é fácil de aglomerar e facilita a dispersão eficaz.
5. Possui boa adesão, efeito de blindagem significativo e capacidade de refletir luz.
6. O pó de alumina tabular é quase transparente, incolor e possui uma superfície plana e lisa. Os cristais bem cristalizados são hexágonos regulares.
7. O pó de alumina tabular pode ser transformado em excelente pó de polimento.
1. Indústria eletrônica: retificação e polimento de wafers de silício monocristalino semicondutor, cristais de quartzo, semicondutores compostos (gálio cristalino, nano fosfatação).
2. Indústria de vidro: moagem e processamento de cristal, vidro de quartzo, tela de vidro para cinescópio, vidro óptico, substrato de vidro para display de cristal líquido (LCD) e cristal de quartzo.
3. Indústria de revestimentos: revestimentos e cargas especiais para pulverização de plasma.
4. Indústria de processamento de metais e cerâmica: materiais cerâmicos de precisão, matérias-primas cerâmicas sinterizadas, revestimentos de alta qualidade e alta temperatura, etc.
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