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Produtos

Pó de Alumina Calcinada para Plaquetas


  • Status do produto:Pó branco
  • Dureza:2100 kg/mm2
  • Peso molecular:102
  • Ponto de fusão:2010℃-2050 ℃
  • Ponto de ebulição:2980℃
  • Solúvel em água:Insolúvel em água
  • Densidade:3,0-3,2g/cm3
  • Contente:99,7%
  • Detalhes do produto

    APLICATIVO

    O pó de polimento de alumina calcinada em placas é feito de pó de alumina industrial de alta qualidade como matéria-prima e processado por um processo de produção especial. O formato do cristal do pó de polimento de alumina produzido é hexagonal e plano, semelhante a uma tábua, por isso é chamado de alumina em placas ou alumina tabular.

    A Alumina Plaquetária é um pó abrasivo de alta qualidade, do tipo alumina, constituído por um cristal de Al2O3 em forma de placa com pureza superior a 99,0%. Possui excelentes propriedades de resistência ao calor, além de ser quimicamente inerte, não sendo corroído por ácidos ou bases. Como a distribuição do tamanho das partículas da Alumina Plaquetária é rigorosamente controlada, ela pode produzir uma superfície lapidada muito fina, conferindo-lhe eficácia superlativa como abrasivo. Com uma ampla gama de utilizações, a Alumina Plaquetária é um pó abrasivo capaz de desempenhar uma infinidade de funções.

    Pó de alumina tabular (1)111

    Pó de alumina tabular

    Pó de alumina tabular (1)

    Pó de alumina tabular

    Especificações padrão para tamanho de partículas

     

    Partícula
    Tamanho

    Distribuição de Partículas (µm)

    Partícula máxima
    tamanho

    Tamanho de partícula
    em 3% do ponto

    Tamanho de partícula
    em 50% dos pontos

    Tamanho de partícula
    em 94% dos pontos

    45

    <82,9

    53,4± 3,2

    34,9 ± 2,3

    22,8± 1,8

    40

    <77,8

    41,8± 2,8

    29,7± 2,0

    19,0± 1,0

    35

    <64,0

    37,6± 2,2

    25,5± 1,7

    16,0± 1,0

    30

    <50,8

    30,2± 2,1

    20,8± 1,5

    14,5± 1,1

    25

    <40,3

    26,3 ± 1,9

    17,4± 1,3

    10,4± 0,8

    20

    <32,0

    22,5± 1,6

    14,2± 1,1

    9,00 ± 0,80

    15

    <25,4

    16,0± 1,2

    10,2 ± 0,8

    6,30±0,50

    12

    <20,2

    12,8± 1,0

    8,20±0,60

    4,90±0,40

    9

    <16,0

    9,70±0,80

    6,40±0,50

    3,60±0,30

    5

    <12,7

    7,20±0,60

    4,70±0,40

    2,80±0,25

    3

    <10,1

    5,20±0,40

    3,10±0,30

    1,80±0,30

    Padrão de qualidade

     

    Tipo de produto

    Gravidade Específica

     

    Al2O3

    SiO2

    Fe2O3

    Na2O

    3 µm-45 µm

    >3,90

    >99,0

    <0,20

    <0,10

    <1,00

     

    Vantagens do pó de alumina

    1. Em comparação com outros pós tabulares, o pó de alumina tabular possui excelentes propriedades de combinação, como alto ponto de fusão, alta dureza, alta resistência mecânica, boa resistência ao desgaste, resistência química, resistência à oxidação e resistência ao calor, etc.

    2. O formato da folha plana aumenta o atrito, melhora a velocidade e a eficiência da moagem, o que pode reduzir o número de máquinas de moagem, mão de obra e tempo de moagem.

    3. O formato plano da chapa torna o objeto resistente a arranhões, e a taxa de produtos qualificados pode aumentar de 10% a 15%. Por exemplo, a taxa de wafers de silício semicondutores qualificados pode chegar a 96% ou mais.

    4. Tem os efeitos duplos dos pós nano e micro, a atividade de superfície é moderada, não só pode combinar-se eficazmente com outros grupos ativos, mas também não é fácil de aglomerar e facilita a dispersão eficaz.

    5. Possui boa adesão, efeito de blindagem significativo e capacidade de refletir luz.

    6. O pó de alumina tabular é quase transparente, incolor e possui uma superfície plana e lisa. Os cristais bem cristalizados são hexágonos regulares.

    7. O pó de alumina tabular pode ser transformado em excelente pó de polimento.


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  • 1. Indústria eletrônica: retificação e polimento de wafers de silício monocristalino semicondutor, cristais de quartzo, semicondutores compostos (gálio cristalino, nano fosfatação).

    2. Indústria de vidro: moagem e processamento de cristal, vidro de quartzo, tela de vidro para cinescópio, vidro óptico, substrato de vidro para display de cristal líquido (LCD) e cristal de quartzo.

    3. Indústria de revestimentos: revestimentos e cargas especiais para pulverização de plasma.

    4. Indústria de processamento de metais e cerâmica: materiais cerâmicos de precisão, matérias-primas cerâmicas sinterizadas, revestimentos de alta qualidade e alta temperatura, etc.

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